厂房材料等也尽可能使用国产材料降低成本。
如果还是按照之前那样，大部分设备都进口，考虑到近期设备涨价，通货膨胀等因素，那么这家工厂的投资成本至少得再增加十亿美元以上。
这年头的晶圆厂投入，是越来越昂贵了……因为现金设备成本越来越贵。
如先进光刻机这些东西，需求量小，产量低，意味着研发成本很难摊薄，同时制造成本也难以通过产量来拉低……最后搞的比战斗机这种军品溢价还要高。
海湾科技的DUV浸润式光刻机，预计一年产量才六十几台……比战斗机的产量都低！
就这么点产量，它就便宜不到哪里去。
其他的核心设备也大多存在类似的情况，产量低，成本无法摊薄，售价极其昂贵。
沪城基地第二十六号厂里，预计采用的上千万美元的设备除了光刻机，还有一大堆呢。
光刻机成本也只占据了晶圆厂成本的百分之二十五左右，还有百分之五十成本是其他设备构成的。
至于非设备成本，也就是厂房以及其他乱七八糟的成本全部加起来，只有百分之二十五……这个百分之二十五的比例是比较低的，台积电搞一家同级别的晶圆厂，非设备成本这些得占据百分之三十左右。
当然，一家晶圆厂里，成本最贵的还是光刻机，光这一种设备就占据百分之二十五的建厂成本。
王道林对自家的DUV浸润式光刻机也是相当自豪的：“我们的DUV浸润式光刻机，目前已经为国内六家客户供货，智云微电子已经接收了三十台这种光刻机，并成功应用于产线上。”
“我们的HDUV-500型光刻机，在套刻精度上，三点五纳米已经满足10-22纳米节点的双重曝光工艺需求，同时我们的双工台技术也有比较大的进步，进一步推高了生产效率！”
“而我们的HDUV-600型号光刻机，目前也已经完成了样机制造，我们正在进行后期的各种测试环节，量产型号有望在明年第四季度出货，以供应智云微电子使用。”
“这款HDUV-600型光刻机，套刻精度达到两点五纳米，完全可以用来进行四重曝光，满足智云微电子提出的等效七纳米工艺的生产需求！”
“目前我们在DUV光刻机领域的技术研发，主要也是集中在这款光刻机上！”
“除了眼前这些光刻机外，旁边的是我们的蚀刻机，离子注入机等核心设备，也都是我们研发人员联合国
本章未完，请点击下一页继续阅读！